Interdiffusion in as-deposited Ni/Ti multilayer thin films analyzed by atom probe tomography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 02.2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0167-577X KITopen-ID: 1000087616 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design |
| Erschienen in | Materials letters |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 236 |
| Seiten | 92–95 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |